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ISSN: 2333-9721
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红外技术  2015 

分子束外延碲镉汞薄膜的砷掺杂技术

DOI: 10.11846/j.issn.1001_8891.201510010, PP. 858-863

Keywords: 分子束外延,碲镉汞,As掺杂,退火,杂质激活

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Abstract:

Ⅴ族元素As在碲镉汞中具有较小的扩散系数,在非本征p型掺杂中得到广泛应用,在p-on-n型高性能探测器及双色或多色探测器应用方面优势明显。对分子束外延掺As碲镉汞薄膜的几种生长技术的基本原理进行了简单介绍,并对各方法存在的优缺点进行了对比分析;同时对As杂质在碲镉汞材料中的掺杂形态、杂质激活退火工艺及杂质激活率等进行了总结分析。对MBEAs掺杂在第三代多层膜结构器件的应用方面提出了建议。

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