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ISSN: 2333-9721
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3～5μmPVInSb测器器的PSG钝化技术

Keywords: 低温CVD,磷硅玻璃,表面固定电荷

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Abstract:

分析了SiO_2+PSG+SiO_2三层钝化增透膜的生长工艺,对实验结果进行了热力学理论探讨;给出了高频电容-电压和光学透过特性曲线,并与SiO_2膜做了比较;对系统的限制因素进行了细致的研究.

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