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ISSN: 2333-9721
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DOI: 10.11830/ISSN.1000-5013.2008.03.0476

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Abstract:

通过分析电沉积金属镀层的织构,探讨3种常见的织构公式的应用.分析表明,织构式Mhkl=[ΣIIhhk′lk′l′]/[ΣII0hh0′kkl′l′]采用峰加和的办法是其无法解决的缺陷,因此不宜采用; 而式TC=[II0hhkkll]/[(1n)Σ(II0hhkkll)]在研究单相镀层织构不但可以研究织构变化趋势,还可以半定量地估算镀层是否实现择优; 而计算多相物质的织构采用织构式p=RR0,R=II((θθ12))则较为简便.最后,通过实例进行验证.

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