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%J 华侨大学学报(自然科学版)
%D 2008
%R 10.11830/ISSN.1000-5013.2008.03.0476
%X 通过分析电沉积金属镀层的织构,探讨3种常见的织构公式的应用.分析表明,织构式Mhkl=[ΣIIhhk′lk′l′]/[ΣII0hh0′kkl′l′]采用峰加和的办法是其无法解决的缺陷,因此不宜采用; 而式TC=[II0hhkkll]/[(1n)Σ(II0hhkkll)]在研究单相镀层织构不但可以研究织构变化趋势,还可以半定量地估算镀层是否实现择优; 而计算多相物质的织构采用织构式p=RR0,R=II((θθ12))则较为简便.最后,通过实例进行验证.
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%U http://www.hdxb.hqu.edu.cn/oa/DArticle.aspx?type=view&id=200803039