全部 标题 作者
关键词 摘要

OALib Journal期刊
ISSN: 2333-9721
费用:99美元

查看量下载量

相关文章

更多...
材料工程  1993 

电磁场氮分压等对多弧离子镀TiN的影响

, PP. 35-37

Keywords: 离子镀,电磁场,氮分压

Full-Text   Cite this paper   Add to My Lib

Abstract:

本文在不同工艺条件下,利用扫描电镜,X射线衍射仪,M-200磨损试验机以及显微硬度计等,对多弧离子镀TiN涂层的表面形貌组织结构以及性能进行了分析研究,揭示了电磁场氮分压对TiN镀层的综合影响。

References

[1]  王福贞等,表面沉积技术,北京机械工业出版社,1989
[2]  陈宝清等,真空,1990. (2). 49
[3]  李晓青,真空,1990. (3). 1
[4]  周细应等,国外金属加工,1993. (4)
[5]  高汉三等.真空.1989. 46 (2)
[6]  李云奈等,真空,1989. 7 (5)
[7]  吴振华等.真空,1992. 9 (2)

Full-Text

Contact Us

service@oalib.com

QQ:3279437679

WhatsApp +8615387084133