OALib Journal期刊
ISSN: 2333-9721
费用:99美元
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电磁场氮分压等对多弧离子镀TiN的影响
, PP. 35-37
Keywords: 离子镀,电磁场,氮分压
Abstract:
本文在不同工艺条件下,利用扫描电镜,X射线衍射仪,M-200磨损试验机以及显微硬度计等,对多弧离子镀TiN涂层的表面形貌组织结构以及性能进行了分析研究,揭示了电磁场氮分压对TiN镀层的综合影响。
References
[1] | 王福贞等,表面沉积技术,北京机械工业出版社,1989
|
[2] | 陈宝清等,真空,1990. (2). 49
|
[3] | 李晓青,真空,1990. (3). 1
|
[4] | 周细应等,国外金属加工,1993. (4)
|
[5] | 高汉三等.真空.1989. 46 (2)
|
[6] | 李云奈等,真空,1989. 7 (5)
|
[7] | 吴振华等.真空,1992. 9 (2)
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