%0 Journal Article
%T 电磁场氮分压等对多弧离子镀TiN的影响
%A 周细应
%A 付志强
%A 万润根
%A 陈凯旋
%J 材料工程
%P 35-37
%D 1993
%X 本文在不同工艺条件下,利用扫描电镜,X射线衍射仪,M-200磨损试验机以及显微硬度计等,对多弧离子镀TiN涂层的表面形貌组织结构以及性能进行了分析研究,揭示了电磁场氮分压对TiN镀层的综合影响。
%K 离子镀
%K 电磁场
%K 氮分压
%U http://jme.biam.ac.cn/CN/Y1993/V0/I12/35