全部 标题 作者
关键词 摘要

OALib Journal期刊
ISSN: 2333-9721
费用:99美元

查看量下载量

相关文章

更多...

基于0.15微米SOI嵌入式DRAM技术的动态钳制电位DTMOS器件源极与漏极的优化设计(英文)

, PP. 63-65

Keywords: 动态钳制电位DTMOS器件,嵌入式DRAM技术,系统集成芯片

Full-Text   Cite this paper   Add to My Lib

Abstract:

描述了用以进行n沟道动态电位DTMOS半导体器件源极/漏极载流子注入优化设计的实验结果,该器件制造采用了低成本0.15微米SOI和SOC(systemonchip,系统集成芯片)技术,同时也包含了高密度嵌入式DRAM技术.实验结果表明,本器件可用来作为嵌入式超低压模拟电路和射频前端电路的混合电路芯片,并与嵌入式DRAM核心技术一起,作为超低压、低成本SOC(系统集成芯片)使用

References

[1]  [ Goldman D, Degregorio K, Kim C S, et al . 0. 15Lm SOI DRAM technology incorporating sub-volt dynamic threshold devices for embedded mixed- signal & RF circuits[ A] . IEEE SOI Cnoference, 2001. 97~ 98.
[2]  [ Parke S A, Hu C, Ko P K. Bipolar-FET hybrid-mode operation of quarter-micrometer SOI MOSFET[ J] . IEEE EDL, 1993, 14( 5) :234~ 236.
[3]  [ Assaderaghi F, Sinitsky D, Parke S, et al . Dynamic threshold-voltage MOSFET ( DTMOS) for ultra- low voltage VLSI[ J] . IEEETED, 1997, 44( 3) : 414~ 422.
[4]  [ Ferle-t Cavrois V, Bracale A, Fel N, et al . High frequency characterization of SOI dynamic throshold voltageMOS ( DTMOS) transistors[A] . IEEE SOI Conference, 1999. 24~ 25.
[5]  [ Momiyama Y, Hirose T, Kurata H, et al . A 140 GHz f t and 60GHz f max DTMOS integrated with high- performance SOI logil technology[A] . International Electron DevicesMeeting, 2003. 451~ 454.
[6]  [ Yagishita A, Saito T, Inumiya S, et al. Dynamic threshold voltage damascene metal gate MOSFET( DT-DMG-MOS) with low threshold voltage, high drive current, and uniform electrical characteristics[ A] . International Electron Device Meeting, 2000. 663~ 666.

Full-Text

Contact Us

service@oalib.com

QQ:3279437679

WhatsApp +8615387084133