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由于HF/HNO3稀释液(用水或醋酸),是硅浸蚀液中唯一能获得抛光表面的浸蚀液.但硝酸的存在,使得浸蚀过程伴有大量氮氧化物,恶化操作,污染环境。因此,寻求污染少的新浸蚀溶液和浸蚀工艺,具有实际意义。
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