低压力铜化学机械抛光集散控制系统

针对化学机械抛光设备提出了PC+NC+实时网络分布式可编程自动控制器的控制方案，并介绍了该系统的总体结构和主控制系统、网络化协调控制子系统、分布式执行控制子系统等核心环节的软硬件实现技术。单区域抛光头气压控制结果表明，该系统具有较高的稳定性和可靠性，能很好地满足化学机械抛光项目的总体要求。