%0 Journal Article
%T 低压力铜化学机械抛光集散控制系统
%A 门延武
%A 张辉
%A 周凯
%A 叶佩青
%J 计算机集成制造系统
%P 0-0
%D 2010
%X 针对化学机械抛光设备提出了PC+NC+实时网络分布式可编程自动控制器的控制方案，并介绍了该系统的总体结构和主控制系统、网络化协调控制子系统、分布式执行控制子系统等核心环节的软硬件实现技术。单区域抛光头气压控制结果表明，该系统具有较高的稳定性和可靠性，能很好地满足化学机械抛光项目的总体要求。
%K 化学机械抛光
%K 运动控制
%K 网络化递阶系统
%K 分布式执行
%K 可编程自动控制器
%U http://www.cims-journal.cn/CN/abstract/abstract2873.shtml