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ISSN: 2333-9721
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化学学报  1990 

分子束弛豫谱研究Ge(111)表面与氯分子热反应动态学

, PP. 85-855

Keywords: 反应机理,,弛豫,表面化学,,解吸,活化能,分子束,刻蚀

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Abstract:

本文用分子束弛豫谱研究了Ge(111)表面与氯分子热反应动态学。采用种子束技术,发现增加氯分子的入射平动能,将有效地增加Cl2与Ge表面的化学蚀刻反应,对分子束弛豫谱的数据分析表明,在表面温度Ts为700-900K的范围内,GeCl2为该反应体系的唯一产物,它的脱附过程是蚀刻反应的速率控制步骤;并且测得脱附活化能Ed为66.0±2.0kJ·mol^-^1。此外,对该化学蚀刻的反应机理进行了讨论。

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