%0 Journal Article
%T 分子束弛豫谱研究Ge(111)表面与氯分子热反应动态学
%A 李雨林
%A 蔡中厚
%A 孙令虹
%A 秦启宗
%J 化学学报
%P 85-855
%D 1990
%X 本文用分子束弛豫谱研究了Ge(111)表面与氯分子热反应动态学。采用种子束技术,发现增加氯分子的入射平动能,将有效地增加Cl2与Ge表面的化学蚀刻反应,对分子束弛豫谱的数据分析表明,在表面温度Ts为700-900K的范围内,GeCl2为该反应体系的唯一产物,它的脱附过程是蚀刻反应的速率控制步骤;并且测得脱附活化能Ed为66.0±2.0kJ·mol^-^1。此外,对该化学蚀刻的反应机理进行了讨论。
%K 反应机理
%K 氯
%K 弛豫
%K 表面化学
%K 锗
%K 解吸
%K 活化能
%K 分子束
%K 刻蚀
%U http://sioc-journal.cn/CN/abstract/abstract331547.shtml