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ISSN: 2333-9721
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化学学报  1988 

含氟膦、胂叶立德的质谱研究

, PP. 137-142

Keywords: 质谱法,,有机氟化合物,,内翁盐

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Abstract:

本文报道37个含氟膦.胂羰基的叶立德衍生物的电子轰击(EI)和8个含氟胂羟基叶立德的甲烷化学电离(Cl)正.负离子质谱.研究其断裂规律,氧和氟原子重排以及不同取代基对一些特征离子强度的影响.

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