%0 Journal Article
%T 含氟膦、胂叶立德的质谱研究
%A 傅佳香
%A 沈延昌
%A 徐永珍
%A 吴元伟
%A 徐笑云
%J 化学学报
%P 137-142
%D 1988
%X 本文报道37个含氟膦.胂羰基的叶立德衍生物的电子轰击(EI)和8个含氟胂羟基叶立德的甲烷化学电离(Cl)正.负离子质谱.研究其断裂规律,氧和氟原子重排以及不同取代基对一些特征离子强度的影响.
%K 质谱法
%K 膦
%K 有机氟化合物
%K 胂
%K 内翁盐
%U http://sioc-journal.cn/CN/abstract/abstract326185.shtml