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ISSN: 2333-9721
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化学学报  1988 

几种碳卤化物多通道激光化学的研究

, PP. 1007-1012

Keywords: 卤化物,分解反应,通道,激光化学,氟氯碳

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Abstract:

本文用CW和TEACO2激光器研究了F12(CF2Cl2)、F114(CF2ClCF2Cl)和F22(CF2HCl)等碳卤化合物的激光诱导解离反应,实验发现,在激光作用下,这些化合物的解离方式不仅与化合物的性质有关,还与激光的能量密度密切相关;F22的激光解离为一级反应,并存在“瓶颈效应".

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