%0 Journal Article
%T 几种碳卤化物多通道激光化学的研究
%A 侯正林
%A 顾月姝
%A 刘传朴
%A 印永嘉
%J 化学学报
%P 1007-1012
%D 1988
%X 本文用CW和TEACO2激光器研究了F12(CF2Cl2)、F114(CF2ClCF2Cl)和F22(CF2HCl)等碳卤化合物的激光诱导解离反应,实验发现,在激光作用下,这些化合物的解离方式不仅与化合物的性质有关,还与激光的能量密度密切相关;F22的激光解离为一级反应,并存在“瓶颈效应".
%K 卤化物
%K 分解反应
%K 通道
%K 激光化学
%K 氟氯碳
%U http://sioc-journal.cn/CN/abstract/abstract332502.shtml