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ISSN: 2333-9721
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化学学报  1994 

同多钼酸掺杂的聚吡咯薄膜电极的制备及表征

, PP. 144-149

Keywords: 电子自旋共振谱法,膜电极,掺杂,X射线光电子谱法,化学修饰电极,同多酸,钼酸,循环伏安法,聚吡咯

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Abstract:

用电化学聚合制备了同多钼酸掺杂的聚吡咯(IPMo/PPy)薄膜电极,这种电极在硫酸水溶液中扫描时具有良好的稳定性,用循环伏安法,X射线光电子能谱(XPS),现场紫外可见光谱电化学及电子自旋共振波谱(ESR)对这种修饰电极进行了表征

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