%0 Journal Article
%T 同多钼酸掺杂的聚吡咯薄膜电极的制备及表征
%A 董绍俊
%A 金文
%A 詹瑞云
%J 化学学报
%P 144-149
%D 1994
%X 用电化学聚合制备了同多钼酸掺杂的聚吡咯(IPMo/PPy)薄膜电极,这种电极在硫酸水溶液中扫描时具有良好的稳定性,用循环伏安法,X射线光电子能谱(XPS),现场紫外可见光谱电化学及电子自旋共振波谱(ESR)对这种修饰电极进行了表征
%K 电子自旋共振谱法
%K 膜电极
%K 掺杂
%K Ｘ射线光电子谱法
%K 化学修饰电极
%K 同多酸
%K 钼酸
%K 循环伏安法
%K 聚吡咯
%U http://sioc-journal.cn/CN/abstract/abstract329081.shtml