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OALib Journal期刊
ISSN: 2333-9721
费用：99美元
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调制结构对TiN/TaN多层膜的生长行为及力学性能的影响
, PP. 389-393
Keywords: TiN/TaN多层膜,生长行为,结构特征,力学特性
Abstract:
利用反应磁控溅射方法，设计并制备了调制周期相同而调制比的TiN/TaN多层膜。利用X射线衍射仪、高分辨透射电子显微镜和纳米压痕仪对多层膜的结构、微观状态和力学性能进行乐系统表征。结果表明调制结构不仅改变多层膜的生长速率，而且能导致多层膜择优生长取向的变化；界面应力的存在使得薄膜生长速率随沉积层厚度的增加而下降；结构分析发现在TiN/TaN多层膜中存在着独立外延生长的(111)和(100)两种取向的调制结构，这两种调制结构的调制周期存在着一定的差异；在我们的实验条件下，调制周期为6nm左右的TiN/TaN多层膜，其硬度提高约50%；在调制比为31时，硬度最大值为34.2GPa，弹性模量为344.9GPa；此外，我们根据结构和力学性能的分析结果，讨论了TiN/TaN多层膜的超硬机制。
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