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OALib Journal期刊
ISSN: 2333-9721
费用：99美元
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MnBi薄膜制备工艺对其磁光优值的影响
, PP. 202-206
Abstract:
应用正交表试验设计法研究了MnBi薄膜制备工艺对其磁光优值的影响,锰对铋的比值、热处理温度以及两者的交互作用对磁光优值有显著的影响,其中交互作用的影响特别显著,其余三个工艺因素(热处理时间、离子轰击和冷阱种类)在被考察的范围内对磁光优值没有明显的影响。还提出一种测量光吸收系数的方法,可用来测量光密度较大的薄膜,只要在测量Faraday旋光的设备上稍加改装即能实现。
| [1] | Williams, H. J. et al.,J. Appl. Phys.,28 (1957) , 1181．
|
| [2] | Chen, D. et al., U. S.Patent No. 3,539,383,1970．
|
| [3] | Unger, W. K. and Stolz, M.,J. Appl.Phys.,42(1971) ,1085．
|
| [4] | Chen, D. et al.,IEEE Trans. Magn.,MAG-9(1973) , 66．
|
| [5] | Telesnin, R. V. et al., Phys. Status Solidi (a), 24 (1974) , 691．
|
| [6] | Lewicki, G. and Guisinger, J.E., Appl. Phys. Lett.,16(1970) , 240．
|
| [7] | Lewicki, G. and Guisinger, J. E.,IEEE Trans. Magn., MAG-9 (1973) , 700．
|
| [8] | Gordon, I. et al.,AIP Conf. Proc., No. 5, pt. 1, 732 (1971) ; RCA Rev.,(1972) ,732．
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Full-Text
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