%0 Journal Article
%T MnBi薄膜制备工艺对其磁光优值的影响
%A 章靖国
%A 韩庆康
%A 张杰昆
%J 金属学报
%P 202-206
%D 1975
%X 应用正交表试验设计法研究了MnBi薄膜制备工艺对其磁光优值的影响,锰对铋的比值、热处理温度以及两者的交互作用对磁光优值有显著的影响,其中交互作用的影响特别显著,其余三个工艺因素(热处理时间、离子轰击和冷阱种类)在被考察的范围内对磁光优值没有明显的影响。还提出一种测量光吸收系数的方法,可用来测量光密度较大的薄膜,只要在测量Faraday旋光的设备上稍加改装即能实现。
%U http://www.ams.org.cn/CN/Y1975/V11/I2/202