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ISSN: 2333-9721
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直流磁控溅射沉积(Ti,Al)N膜的研究

, PP. 233-237

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Abstract:

研究了用直流磁控反应性溅射法在Ａｒ＋Ｎ２气氛中沉积（Ｔｉ，Ａｌ）Ｎ膜的工艺。（Ｔｉ，Ａｌ）Ｎ膜具有比ＴｉＮ膜高的耐磨性、硬度和高温抗氧化性。ＡＥＳ深度分析表明，由Ａｌ的选择性氧化形成的Ａｌ２Ｏ３保护层，是（Ｔｉ，Ａｌ）Ｎ膜具有优良高温抗氧化性能的原因．

References

[1]	1IkedaT,SatohH．ThinSolidFilms,1991;195:992JehnHA,HofmannS,RuckbornVE,MunzWD．JVacSciTechnol,1986;A4:27013JehnHA,HofmannS,MunzWD．ThinSolidFilms,1987;153:454张承忠．金属的腐蚀与保护．北京:冶金工业出版社,1985,90

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