%0 Journal Article
%T 直流磁控溅射沉积(Ti,Al)N膜的研究
%A 蒋生蕊
%A 彭栋梁
%A 赵学应
%A 谢亮
%A 李强
%J 金属学报
%P 233-237
%D 1994
%X 研究了用直流磁控反应性溅射法在Ａｒ＋Ｎ２气氛中沉积（Ｔｉ，Ａｌ）Ｎ膜的工艺。（Ｔｉ，Ａｌ）Ｎ膜具有比ＴｉＮ膜高的耐磨性、硬度和高温抗氧化性。ＡＥＳ深度分析表明，由Ａｌ的选择性氧化形成的Ａｌ２Ｏ３保护层，是（Ｔｉ，Ａｌ）Ｎ膜具有优良高温抗氧化性能的原因．
%K （Ｔｉ
%K Ａｌ）Ｎ薄膜
%K 磁控溅射
%K 高温氧化
%U http://www.ams.org.cn/CN/Y1994/V30/I17/233