多层膜界面粗糙度的低角X射线衍射研究
, PP. 774-778
Keywords: 多层膜,磁控溅射,低角Ｘ射线衍射,界面粗糙度
Abstract:
对磁控溅射方法制备的Ｗ／Ｓｉ周期多层膜在Ｘ射线衍时仪上进行了低角Ｘ射线衍射实验，并用动力学理论分析了膜层的周期结构和界面粗糙度，在对实验谱线的拟合过程中，考虑了界面的不对称性、周期的随机涨落及系统偏差等因素对衍射强度的影响，并讨论了各个参量对衍射强度影响的程度．
| [1] | 1SpillerE,YounKB．SPIE,1993;2011:2882CatichaA．SPIE,1992;1740:813BarbeeJrTW,SPIE,1985;563:24姜晓明．中国科技大学博士学位论文,19895 BerningPH．PhysThinFilms,1963;1:696 UnderwoodJH,BarbeeJrTW．AIPConferenceProceedings,1981;75:1707BoercherDB．SPIE,1991;1547:478李云奇．真空镀膜技术与设备,19899 SpillerE．In:DhezP,WeisbuchCeds．Physics,FabricationandApplicationofMultilayeredStructures．NewYork:Plenum,1987:27
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