%0 Journal Article
%T 多层膜界面粗糙度的低角X射线衍射研究
%A 王凤平
%A 崔明启
%A 王佩璇
%A 方正知
%J 金属学报
%P 774-778
%D 1996
%X 对磁控溅射方法制备的Ｗ／Ｓｉ周期多层膜在Ｘ射线衍时仪上进行了低角Ｘ射线衍射实验，并用动力学理论分析了膜层的周期结构和界面粗糙度，在对实验谱线的拟合过程中，考虑了界面的不对称性、周期的随机涨落及系统偏差等因素对衍射强度的影响，并讨论了各个参量对衍射强度影响的程度．
%K 多层膜
%K 磁控溅射
%K 低角Ｘ射线衍射
%K 界面粗糙度
%U http://www.ams.org.cn/CN/Y1996/V32/I7/774