OALib Journal期刊
ISSN: 2333-9721
费用:99美元
|
|
|
用DC-PCVD装置对钢沉积Si_3N_4薄膜
, PP. 320-324
Keywords: 钢,Si_3N_4薄膜,直流等离子化学气相沉积
Abstract:
控制工艺参数,用直流等离于化学气相沉积(DCPCVD)装置,对碳钢、合金结构钢、高速钢等沉积Si3N4非晶态薄膜,并研究了薄膜的成分、结构、形貌及硬度
References
[1] | 1 Aron P R,Grill A.Thin Solid Films,1982;96:87
|
[2] | 2 GrillA, Aron P R. Thin Solid Films, 1983;108:173
|
[3] | 3吴大兴,周海,杨川,高国庆.硅酸盐学报,1992;20:248
|
[4] | 4 Gupta Manju,Rothi V K,Thangara R,Agmihotri O P.Thin Solid Films,1991;204:77
|
[5] | 5王建琪,胡文辉,冯大明电子能谱(UPS)学引论.北京:国防工业出版社,1992:2
|
[6] | 6甑汉生.薄膜科学与技术,1988;1(1):10
|
[7] | 7宇田川和,柳田博明,须藤仪一著,钱钧,安时天,张中,金宗哲,何欧里译.新型无机硅化合物(基础与应用).北京:中国建筑工业出版社,1989:12
|
[8] | 8王一禾,杨膺善.非晶态合金.北京:冶金工业出版社,1989:124
|
Full-Text
|
|
Contact Us
service@oalib.com QQ:3279437679 
WhatsApp +8615387084133
|
|