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ISSN: 2333-9721
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金属学报  1997 

用DC-PCVD装置对钢沉积Si_3N_4薄膜

, PP. 320-324

Keywords: ,Si_3N_4薄膜,直流等离子化学气相沉积

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Abstract:

控制工艺参数,用直流等离于化学气相沉积(DCPCVD)装置,对碳钢、合金结构钢、高速钢等沉积Si3N4非晶态薄膜,并研究了薄膜的成分、结构、形貌及硬度

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