%0 Journal Article
%T 用DC-PCVD装置对钢沉积Si_3N_4薄膜
%A 吴大兴
%A 杨川
%A 高国庆
%J 金属学报
%P 320-324
%D 1997
%X 控制工艺参数，用直流等离于化学气相沉积（DCPCVD）装置，对碳钢、合金结构钢、高速钢等沉积Si3N4非晶态薄膜，并研究了薄膜的成分、结构、形貌及硬度
%K 钢
%K Si_3N_4薄膜
%K 直流等离子化学气相沉积
%U http://www.ams.org.cn/CN/Y1997/V33/I3/320