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OALib Journal期刊
ISSN: 2333-9721
费用：99美元
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纳米晶软磁薄膜Fe-Ti-N的结构、磁学性能和热稳定性研究
, PP. 204-208
Keywords: Fe-Ti-N纳米软磁薄膜,磁场热处理
Abstract:
在高溅射功率900W下用RF磁控油射方法制备了厚为630-780nm的Fe-Ti-N薄膜.结果表明当膜成分(原子分数,%,下同)在Fe-3.9Ti-8.8N和Fe-3.3Ti-13.5N范围内,薄膜由α’和Ti2N沉淀组成,磁化强度4\piMs超过纯铁,最高可达2.38T;而矫顽力Hc下降为89A/m1,了可以满足针对1.55Gb/cm2高存储密度的GMR/感应式复合读写磁头中写入磁头的需要.N原子进入α-Fe使α’具有高饱和磁化强度;Ti的加入,阻止α’→α+γ’的分解,稳定了强铁磁性相α’,是Fe-Ti-N具有高饱和磁化强度的原因.由于由晶粒度引起的对Hc的影响程度HcD与晶粒度D有以下关系HcD∝D6,晶粒度控制非常重要.N原子进入α-Fe点阵的八面体间隙,引起极大的畸变,使晶粒碎化.提高溅射功率也使晶粒度下降.成本两者共同作用,能使晶粒度下降到约14nm,使Hc下降.晶界是择优沉淀地点,在α’晶界上沉淀Ti2N能起钉扎作用,阻止晶界迁移,使纳米晶α’不能长大.薄膜的结构和Hc的稳定温度不低于520℃.
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