%0 Journal Article
%T 纳米晶软磁薄膜Fe-Ti-N的结构、磁学性能和热稳定性研究
%A 李丹
%A 顾有松
%A 常香荣
%A 李福燊
%A 乔利杰
%A 田中卓
%A 方光旦
%A 宋庆山
%J 金属学报
%P 204-208
%D 2003
%X 在高溅射功率900W下用RF磁控油射方法制备了厚为630-780nm的Fe-Ti-N薄膜.结果表明当膜成分(原子分数,%,下同)在Fe-3.9Ti-8.8N和Fe-3.3Ti-13.5N范围内,薄膜由α’和Ti2N沉淀组成,磁化强度4\piMs超过纯铁,最高可达2.38T;而矫顽力Hc下降为89A/m1,了可以满足针对1.55Gb/cm2高存储密度的GMR/感应式复合读写磁头中写入磁头的需要.N原子进入α-Fe使α’具有高饱和磁化强度;Ti的加入,阻止α’→α+γ’的分解,稳定了强铁磁性相α’,是Fe-Ti-N具有高饱和磁化强度的原因.由于由晶粒度引起的对Hc的影响程度HcD与晶粒度D有以下关系HcD∝D6,晶粒度控制非常重要.N原子进入α-Fe点阵的八面体间隙,引起极大的畸变,使晶粒碎化.提高溅射功率也使晶粒度下降.成本两者共同作用,能使晶粒度下降到约14nm,使Hc下降.晶界是择优沉淀地点,在α’晶界上沉淀Ti2N能起钉扎作用,阻止晶界迁移,使纳米晶α’不能长大.薄膜的结构和Hc的稳定温度不低于520℃.
%K Fe-Ti-N纳米软磁薄膜
%K 磁场热处理
%U http://www.ams.org.cn/CN/Y2003/V39/I2/204