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北京理工大学学报 2001
等离子处理时TiN-MoSx/Ti涂层中S大量刻蚀的XPS分析Keywords: TiN－MoSx／Ti,复合涂层,X射线光电子能谱,离子刻蚀,复合薄膜,氮化钛,等离子处理,摩擦性能,化学组成 Abstract: 采用XPS对TiN-MoSx/Ti复合膜表面S被Ar^大量刻蚀后化学组成及摩擦学性能的变化机理进行了研究。长时间离子轰击后复合膜表层的化学计量值x从最初的2.03降至1.25，Mo3d5/2的结合能从231.73eV相应减小到231.07eV。刻蚀5min后的涂层表面为深黑色的致密结构，摩擦学性能优异；而刻蚀15min后的涂层表面为浅灰色的疏松结构，且摩擦损性能也大幅下降。
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