%0 Journal Article
%T 等离子处理时TiN-MoSx/Ti涂层中S大量刻蚀的XPS分析
%J 北京理工大学学报
%D 2001
%X 采用XPS对TiN-MoSx/Ti复合膜表面S被Ar^大量刻蚀后化学组成及摩擦学性能的变化机理进行了研究。长时间离子轰击后复合膜表层的化学计量值x从最初的2.03降至1.25，Mo3d5/2的结合能从231.73eV相应减小到231.07eV。刻蚀5min后的涂层表面为深黑色的致密结构，摩擦学性能优异；而刻蚀15min后的涂层表面为浅灰色的疏松结构，且摩擦损性能也大幅下降。
%K TiN－MoSx／Ti
%K 复合涂层
%K X射线光电子能谱
%K 离子刻蚀
%K 复合薄膜
%K 氮化钛
%K 等离子处理
%K 摩擦性能
%K 化学组成
%U http://journal.bit.edu.cn/zr/ch/reader/view_abstract.aspx?file_no=200106184&flag=1