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重庆大学学报 2007
Ni在酸性介质中钝化的现场X-射线衍射DOI: 10.11835/j.issn.1000-582X.2007.07.021 Keywords: Ni/H2SO4,现场XRD,Ni,钝化,酸性介质,射线衍射,Technique,Diffraction,Electrolyte,Acid,Behavior,厚度,钝化膜,作用,电极表面,分子,钝化电位,结果,结构变化,溶液界面,分析,差谱法,谱图,观测 Abstract: 采用θ-2θ型粉末衍射仪对Ni在H2SO4介质中的钝化过程进行了现场X-射线衍射(XRD)观测,同时收集Ni电极/溶液界面两侧的XRD谱图,采用差谱法分析Ni钝化前后界面两侧的结构变化.结果表明,钝化电位下,更多的H2O分子进入Ni电极表面及附近,其数目随钝化电位的升高而增大.H2O分子参与Ni的钝化过程,在Ni的钝化过程中起着重要的作用.钝化膜的厚度随着钝化电位的升高而增大.
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