%0 Journal Article
%T Ni在酸性介质中钝化的现场X-射线衍射
%A 鲜晓红
%A 陈昌国
%A 辜敏
%J 重庆大学学报
%D 2007
%R 10.11835/j.issn.1000-582X.2007.07.021
%X 采用θ-2θ型粉末衍射仪对Ni在H2SO4介质中的钝化过程进行了现场X-射线衍射(XRD)观测,同时收集Ni电极/溶液界面两侧的XRD谱图,采用差谱法分析Ni钝化前后界面两侧的结构变化.结果表明,钝化电位下,更多的H2O分子进入Ni电极表面及附近,其数目随钝化电位的升高而增大.H2O分子参与Ni的钝化过程,在Ni的钝化过程中起着重要的作用.钝化膜的厚度随着钝化电位的升高而增大.
%K Ni/H2SO4
%K 现场XRD
%K Ni
%K 钝化
%K 酸性介质
%K 射线衍射
%K Technique
%K Diffraction
%K Electrolyte
%K Acid
%K Behavior
%K 厚度
%K 钝化膜
%K 作用
%K 电极表面
%K 分子
%K 钝化电位
%K 结果
%K 结构变化
%K 溶液界面
%K 分析
%K 差谱法
%K 谱图
%K 观测
%U http://qks.cqu.edu.cn/cqdxzrcn/ch/reader/view_abstract.aspx?file_no=200707254&flag=1