邻苯三酚红修饰碳糊电极吸附伏安法测定痕量铋
, PP. 1527-1530
Keywords: 铋,邻苯三酚红,碳糊修饰电极,吸附伏安法
Abstract:
报道了采用邻苯二酚红修饰碳糊电极测定痕量铋的方法。在0.30mol/L的HCI溶液中,于-0.10V搅拌富集3min,然后在-0.35V静止还原60s,再进行阳极化扫描,在-0.10V左右获得灵敏的铋溶出峰,二次导数峰电流与铋浓度在1.0×10-9~6.0×10-7mol/L范围内呈线性关系,检出限为5×10-10mol/L.对电极反应机理进行了讨论。
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