%0 Journal Article
%T 邻苯三酚红修饰碳糊电极吸附伏安法测定痕量铋
%A 郭会时
%A 李益恒
%J 分析化学
%P 1527-1530
%D 2000
%X 报道了采用邻苯二酚红修饰碳糊电极测定痕量铋的方法。在0.30mol/L的HCI溶液中,于-0.10V搅拌富集3min,然后在-0.35V静止还原60s,再进行阳极化扫描,在-0.10V左右获得灵敏的铋溶出峰,二次导数峰电流与铋浓度在1.0×10-9～6.0×10-7mol/L范围内呈线性关系,检出限为5×10-10mol/L.对电极反应机理进行了讨论。
%K 铋
%K 邻苯三酚红
%K 碳糊修饰电极
%K 吸附伏安法
%U http://210.14.121.5:8080/fxhx/CN/abstract/abstract3557.htm