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ISSN: 2333-9721
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分析化学  2004 

流动注射化学发光法测定尼莫地平

, PP. 345-347

Keywords: 尼莫地平,流动注射,化学发光

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Abstract:

利用尼莫地平对CeC-Na2SO3化学发光体系的抑制作用,建立了流动注射-化学发光法测定尼莫地平的新方法.化学发光强度与尼莫地平浓度在0.5~90mg/L范围内呈线性关系,线性范围为0.5~10mg/L时,r=0.9990;线性范围为10~90mg/L时,r=0.9968.回收率在98.3%~103.2%范围内;检出限为0.085mg/L.

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