%0 Journal Article
%T 流动注射化学发光法测定尼莫地平
%A 赵亚娟
%A 郎惠云
%A 张秀军
%A 江元汝
%J 分析化学
%P 345-347
%D 2004
%X 利用尼莫地平对CeC-Na2SO3化学发光体系的抑制作用,建立了流动注射-化学发光法测定尼莫地平的新方法.化学发光强度与尼莫地平浓度在0.5～90mg/L范围内呈线性关系,线性范围为0.5～10mg/L时,r=0.9990;线性范围为10～90mg/L时,r=0.9968.回收率在98.3%～103.2%范围内;检出限为0.085mg/L.
%K 尼莫地平
%K 流动注射
%K 化学发光
%U http://210.14.121.5:8080/fxhx/CN/abstract/abstract4965.htm