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分析化学 1984
质谱同位素稀释法则定UO2、UO3及U3O8中痕量硼, PP. 379-381 Abstract: 以N-甲基葡萄糖络合树脂分离硼,用国产质谱计测定了UO2、UO3及U3O8中痕量硼.通过合理选择发射剂用量,提高了发射灵敏度;用N-甲基葡萄糖络合树脂纯化主要试剂,降低了空白.方法的检出限为4.4×10-9克硼.分析含硼0.330ppm的UO2试样时,方法的精密度为±3.4%.通常,分析痕量硼的主要困难是分离过程中硼的回收率不稳.Marsel认为,当从含硼0.5ppm的试样中分离硼时,一般化学方法的回收率可在20-100%之间波动.
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