%0 Journal Article
%T 质谱同位素稀释法则定UO2、UO3及U3O8中痕量硼
%A 孟宪厚
%A 黄达峰
%A 宋新
%J 分析化学
%P 379-381
%D 1984
%X 以N-甲基葡萄糖络合树脂分离硼,用国产质谱计测定了UO2、UO3及U3O8中痕量硼.通过合理选择发射剂用量,提高了发射灵敏度;用N-甲基葡萄糖络合树脂纯化主要试剂,降低了空白.方法的检出限为4.4×10-9克硼.分析含硼0.330ppm的UO2试样时,方法的精密度为±3.4%.通常,分析痕量硼的主要困难是分离过程中硼的回收率不稳.Marsel认为,当从含硼0.5ppm的试样中分离硼时,一般化学方法的回收率可在20-100%之间波动.
%U http://210.14.121.5:8080/fxhx/CN/abstract/abstract11045.htm