Ar~+刻蚀对MoS_2润滑膜分子结构的影响
Keywords: 氩离子溅射,择优刻蚀,XPS,AES,剖面分析
Abstract:
采用Ar+离子溅射源进行XPS和AES剖面分析,结果发现,Ar+对MoS2分子中的S原子产生“择优”选择刻蚀并随之生成非化学计量比的MoSx,Mo原子被还原,Mo3d结合能值向低端位移约1.7eV.应该注意的是,采用Ar+溅射进行XPS剖面分析时不能确定材料表面和界面元素的化学价态,S/Mo原子比同实验值之间亦存在差异,故应采用有关软件对实验结果进行修正.
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