%0 Journal Article
%T Ar~+刻蚀对MoS_2润滑膜分子结构的影响
%A 齐尚奎
%A 余来贵
%A 吕晋军
%A 杨生荣
%J 摩擦学学报
%D 2001
%X 采用Ar+离子溅射源进行XPS和AES剖面分析,结果发现,Ar+对MoS2分子中的S原子产生“择优”选择刻蚀并随之生成非化学计量比的MoSx,Mo原子被还原,Mo3d结合能值向低端位移约1.7eV.应该注意的是,采用Ar+溅射进行XPS剖面分析时不能确定材料表面和界面元素的化学价态,S/Mo原子比同实验值之间亦存在差异,故应采用有关软件对实验结果进行修正.
%K 氩离子溅射
%K 择优刻蚀
%K XPS
%K AES
%K 剖面分析
%U http://www.tribology.com.cn/ch/reader/view_abstract.aspx?file_no=20010104&flag=1