蔗糖羟基保护的选择性去除

将蔗糖全基团保护物(TRISPA)中羟基的保护基团进行选择性去除，制备出高纯度的2,3,6,3′,4′-五氧乙酰基蔗糖（6-PAS），并用1H-NMR和质谱、FT-IR表征了产物的结构特征。考察了水分和反应温度对选择性去除羟基上保护基团的影响，采用了去除羟基上保护基团和乙酰基迁移一体化反应，反应的选择性80％，6-PAS收率52％，液相色谱分析6-PAS的纯度为99％。