%0 Journal Article
%T 蔗糖羟基保护的选择性去除
%A 吴福忠
%A 张平
%A 蔡水洪
%A 龙中柱
%A 徐轶
%J 华东理工大学学报
%P 21-24
%D 2009
%X 将蔗糖全基团保护物(TRISPA)中羟基的保护基团进行选择性去除，制备出高纯度的2,3,6,3′,4′-五氧乙酰基蔗糖（6-PAS），并用1H-NMR和质谱、FT-IR表征了产物的结构特征。考察了水分和反应温度对选择性去除羟基上保护基团的影响，采用了去除羟基上保护基团和乙酰基迁移一体化反应，反应的选择性80％，6-PAS收率52％，液相色谱分析6-PAS的纯度为99％。
%K 羟基的去保护
%K 选择性
%K 6-PAS
%K 一体化反应
%U http://journal.ecust.edu.cn/ch/reader/view_abstract.aspx?file_no=200901005&flag=1