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福州大学学报(自然科学版) 2003
磁控溅射SmFe2 GMF的工艺及膜性能研究Keywords: 磁控溅射,SmFe2,功能薄膜,磁致伸缩 Abstract: 采用正交试验方法研究了磁控溅射的工艺因素:溅射功率、溅射气压、基片到靶材的距离等对SmFe2超磁致伸缩薄膜制备的影响;用SEM能谱仪研究了获得的SmFe2薄膜的成分;用小角度X射线掠射法研究了获得的SmFe2薄膜的结构;得到了磁控溅射制备SmFe2薄膜的优选工艺条件;并测量了该工艺条件下SmFe2 GMF的磁致伸缩系数λ.
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