%0 Journal Article
%T 磁控溅射SmFe2 GMF的工艺及膜性能研究
%A 彭俊华
%A 周白杨
%A 邓光华
%A 王平
%A 周军
%J 福州大学学报(自然科学版)
%D 2003
%X 采用正交试验方法研究了磁控溅射的工艺因素:溅射功率、溅射气压、基片到靶材的距离等对SmFe2超磁致伸缩薄膜制备的影响;用SEM能谱仪研究了获得的SmFe2薄膜的成分;用小角度X射线掠射法研究了获得的SmFe2薄膜的结构;得到了磁控溅射制备SmFe2薄膜的优选工艺条件;并测量了该工艺条件下SmFe2 GMF的磁致伸缩系数λ.
%K 磁控溅射
%K SmFe2
%K 功能薄膜
%K 磁致伸缩
%U http://xbzrb.fzu.edu.cn/ch/reader/view_abstract.aspx?file_no=200306179&flag=1