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ISSN: 2333-9721
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真空静电封接过程与分析

Keywords: 真空,静电封接,工艺,分析

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Abstract:

叙述了真空静电封接技术的工艺过程 ,对封接结果做扫描电子显微镜 (SEM)断面观察 ,并对封接件断面的元素浓度的深度分布用二次离子质谱分析器 (SIMS)进行分析 ,提出了真空静电封接的类电容器结构的新模型 .

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