含吡啶鎓伊利德聚丙烯酸类高分子的合成及其光敏性能研究

这个光重排反应在光敏高分子中的应用最近已有报道。我们利用这种光照后其水溶性发生变化的性质,合成了含吡啶鎓伊利德的水显影光致抗蚀剂。合成路线如下