%0 Journal Article
%T 含吡啶鎓伊利德聚丙烯酸类高分子的合成及其光敏性能研究
%A 赵儒林
%J 科学通报
%P 991-991
%D 1990
%X 这个光重排反应在光敏高分子中的应用最近已有报道。我们利用这种光照后其水溶性发生变化的性质,合成了含吡啶鎓伊利德的水显影光致抗蚀剂。合成路线如下
%K 吡啶鎓伊利德
%K 聚丙烯酸
%K 紫外光敏高分子
%U http://csb.scichina.com:8080/CN/abstract/abstract359861.shtml