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ISSN: 2333-9721
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科学通报  1989 

低温紫外Hg敏化光化学气相淀积SiO_2薄膜的研究

, PP. 1457-1457

Keywords: 低温,紫外,Hg敏化,光-CVD,SiO_2薄膜

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Abstract:

光化学气相淀积(Photo-chemicalvapordeposition,光-CVD)是一种很有前途的半导体低温化技术。用该技术生成的SiO_2薄膜可用于扩散掩蔽、VLSI多层布线以及有源器件之间的隔离、MOS器件的介质栅、半导体器件的钝化等等。在低温条件下,用紫外Hg

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