%0 Journal Article
%T 低温紫外Hg敏化光化学气相淀积SiO_2薄膜的研究
%A 景俊海
%J 科学通报
%P 1457-1457
%D 1989
%X 光化学气相淀积(Photo-chemicalvapordeposition,光-CVD)是一种很有前途的半导体低温化技术。用该技术生成的SiO_2薄膜可用于扩散掩蔽、VLSI多层布线以及有源器件之间的隔离、MOS器件的介质栅、半导体器件的钝化等等。在低温条件下,用紫外Hg
%K 低温
%K 紫外
%K Hg敏化
%K 光-CVD
%K SiO_2薄膜
%U http://csb.scichina.com:8080/CN/abstract/abstract359341.shtml